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세메스, 신규 세정 장비 개발…불순물 제거율 90% 이상

국내 반도체 장비 업체인 세메스는 반도체 제조용 고온 매엽인산 세정 장비 '블루아이스 프라임'을 신규 개발했다고 7일 밝혔다.

매엽식 인산 공정은 웨이퍼 상부에 170℃ 이상의 고온 인산(H3PO4)을 토출, 패턴 면을 처리하는 데 있어 식각 균일도와 불순물 제거 기술 확보가 어려워 많은 기업이 개발에 실패해왔다.

세메스는 자체 개발한 척(Chuck)을 장착해 웨이퍼를 고온으로 히팅하여 웨이퍼 중앙과 가장자리 온도 균일도를 높이고 기존 배치 타입 습식 세정 방식의 한계로 지적됐던 불순물 제거율을 90% 이상으로 높이며 매엽식 인산 공정 기술을 차별화했다.

또 작업 과정에서 발생하는 오·폐수를 최소화하기 위해 케미컬 리사이클링 기술을 개발, 사용한 케미컬을 90% 이상 재사용할 수 있도록 했다.
최근 반도체 장비 수요 업체에서 요구하는 친환경 그린 팹(공장) 설비에 적합하다는 게 회사 설명이다.

정태경 세메스 대표는 "현재 고온 매엽인산 기술은 산업통상자원부 국가 첨단 기술 및 제품으로 등록돼 있다"며 "앞으로 다양한 반도체 공정 기술을 융·복합한 신제품을 개발해 매출을 늘리고 친환경 설비 경쟁력을 확보할 방침"이라고 말했다.

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