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반도체 업계에서 굴지의 기업으로 꼽히는 네덜란드의 ASML이 최첨단 반도체 양산에 필요한 하이 NA 극자외선(EUV) 노광장비 첫 제품을 인텔에 공급했다.
삼성전자와 대만의 TSMC 등 세계 주요 반도체 업체도 ASML의 장비를 공급받기 위해 발 빠르게 움직이고 있다.
블룸버그 통신 등 외신은 22일(현지시간) “ASML이 최신 반도체 제조 장비의 주요 부품인 하이 NA EUV 노광 시스템 첫 번째 제품을 출하, 미국 오리건주에 있는 인텔의 D1X 공장으로 배송했다”고 보도했다.
ASML은 21일 공식 소셜미디어(SNS)를 통해 "인텔에 첫 번째 하이 NA EUV 시스템을 출하하게 돼 기쁘고 자랑스럽다"고 전했다.
하이 NA EUV는 EUV 노광장비 분야의 세계 최고 제조업체인 ASML의 최신 제품이다.
가격은 대당 3억달러(약 3900억원)에 육박할 것으로 추정된다.
현재 시중에 나와 있는 ASML의 최고급 장비 가격은 약 1억8천만 달러(약 2343억원) 수준이다.
하이 NA EUV는 렌즈 개구수(빛을 모으는 능력 단위)를 0.55(기존 EUV 장비 0.33)로 키운 것이 특징이다.
집광 능력이 높아진 만큼 기존 장비보다 더 선명하고 얇은 회로를 그릴 수 있다.
세계의 주요 반도체 기업들은 2025년부터 선폭(회로 폭) 2㎚ 이하 공정에서의 칩 양산을 계획하고 있는데, 이런 초미세 공정에는 빛의 파장이 짧은 EUV 노광장비가 꼭 필요하다.
팻 겔싱어 인텔 최고경영자(CEO)는 자사가 이 첨단 장비를 가장 먼저 도입할 것이라고 밝히며 반도체 제조 분야에서 선두 자리를 되찾겠다는 의지를 드러낸 바 있다.
하이 NA EUV의 연간 생산량은 10대 안팎으로 알려졌다.
이 때문에 장비 확보를 위한 삼성전자, SK하이닉스, TSMC 등의 경쟁도 치열하다.
이재용 삼성전자 회장, 최태원 SK그룹 회장, 윤석열 대통령 등이 이달 중순 ASML 본사를 방문한 것도 장비를 살펴보고 협력 관계를 강화하기 위한 차원이다.
삼성전자는 ASML과의 공동 R&D 프로젝트를 통해 하이 NA EUV 활용도를 극대화한다는 방침이다.
삼성전자 관계자는 “삼성이 하이 NA EUV의 기술적 우선권을 확보했으며, 장기적으로 하이 NA EUV를 잘 사용할 수 있는 계기가 생겼다”고 밝혔다.
최승우 기자 loonytuna@asiae.co.kr
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